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光刻是大规模集成电路芯片制备的核心工艺环节,其中,euv光刻机是服务于7nm 以下制程芯片的设备。生产euv光刻机的技术壁垒极高,除了光刻机结构的整体设计外,其零部件工艺也是目前光学以及精密机械领域的极限水平。